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凭借10年专注于ePTFE研究和防护经验,沃瑞充分利用自主关键核心材料ePTFE的低摩擦系数,不粘尘,化学惰性等特性设计出抗静电、低集尘及高柔的创新解决方案和Voir®CABLEPod™沃瑞抗静电无拖链电缆。

解决方案

 

Voir®光掩膜防尘罩组件

半导体/微电子制程  
 
       光掩模版又称光刻掩膜版,是在含铬等金属薄膜的玻璃基板上,形成复杂几何图形转移到母板,是光刻工艺中复印光致抗蚀掩蔽层的“印相底片”。主要应用于芯片IC、FPD平板显示、PCB印刷电路板、MEMS等。

      VOIR®SCU光刻掩膜防尘N方案是采用高分子硝化纤维防尘薄膜+防水防尘过滤器。VOIR®SCU专门针对光刻DUV波段(248nm和193nm波长)推出创新含氟聚合物的PTFE薄膜F方案;在DUV波段吸收相比较硝化树脂除吸收系数低,除透明度外,在光照下F方案极大减少释放对掩模有害的气体成分。